Китай изучает новые возможности обойти ограничения на литографические машины, которые используются в производстве микрочипов. Используя ускорители частиц для создания нового лазерного источника, исследователи закладывают основу для будущего производства полупроводников.
Сейчас разрабатываются планы построить ускоритель частиц с окружностью 100–150 метров. Электронный луч ускорителя превратится в высококачественный источник света для производства чипов.
В отличие от таких компаний как Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML), которая выступает за уменьшение размеров машин для изготовления чипов на экспорт, китайский проект направлен на локализацию производства путем строительства колоссальной фабрики, на которой размещено несколько литографических машин вокруг одного ускорителя.
Это нововведение может способствовать крупномасштабному и недорогому производству чипов и потенциально вывести Китай на лидирующую роль в промышленном производстве передовых чипов, известных как 2-нм (нанометровые) чипы.
